第859章 我平时也在伺候你啊

周六上午10点，吃了个早饭之后，许青舟着急看杨—米尔斯存在性和质量间隙的论文，而是先去一趟研究院。

胡静璇早上就发消息过来，说新材料的测试出来了。

材料研究所。

许青舟进入办公室的时候，见胡组长正低头盯着电脑：「数据出来了？」

「嗯，但..」

胡静璇叹了口气，把列印的报告单递给许青舟：「我们预测的氚渗透率数据为小于1.0×10—12mo1H20·m1·s1，可实际实验数据为8.5×109mol

H20·m1·s1。」

「而且，观察到大量微米级龟裂和局部起泡丶剥落。您看这个截面情况，层间界面发生严重互扩散，W层与AIN层之间形成~20nm厚的W—AI—N三元扩散层，清晰的纳米结构完全模糊化。」

许青舟翻开报告，总算知道为啥实验室里大家情绪都不怎麽高。

在此之前，大夥）儿对ATPC—O1（钨—氮化铝多层纳米涂层）抱有非常高的期望，觉得在抗氚渗透上有奇效。

许青舟视线从一行行数据上滑过。

坦白来说，ATPC—01的设计理念还算先进，瞄准了小型化堆芯更严苛的工作环境，试图结合几种材料的优势来突破传统涂层的局限。

钨（W）和氮化铝（AIN）的热膨胀系数存在差异，在650°C的持续高温和15MW/m的热循环冲击下，涂层内部产生了巨大的热应力。

许青舟很快发现问题，沉声说道：「我们低估了钨（W）和氮化铝（AIN）两种材料在界面处的热力学不稳定性，他们在小型化丶高功率密度工况下，热—力—

化学三种效应的协同放大作用。」

「是的。」

胡静璇点了点头：「W和AIN之间发生了严重的互扩散，形成了一个结构疏松丶缺陷密集的W—AI—N三元扩散层。这个扩散层非但没能阻止氚，反而成了氚快速渗透的高速公路」。」

「没错，扩散层结构疏松丶缺陷密度极高。」一个戴眼镜的青年表情沮丧。

「好了，都别这副表情。」

许青舟放下报告，笑着：「其实，我们这次也不是毫无收获，ATPC—01的实验，足以说明在小型堆的极端工况下，单纯堆叠高熔点的纳米材料是远远不够的，我们必须将界面热力学稳定性」提升到与纳米结构」同等甚至更高的优先级。」

「ATPC—01的探索历程仍然具有很高的价值，它帮助我们将研发重点从创造纳米结构转向了确保纳米结构在极端环境下的长期稳定性...」

胡静璇也是沉吟。

许青舟对着六个研究员挥了挥手，「下班了，先好好休息，周一回来之后，再进行下一阶段实验。」

胡静璇属于雷厉风行的性格，测试出来，他们刚值完大夜班，不可能重新开启下个实验，随即打了个招呼，收拾东西先回去休息。

「好，教授再见。」

而其他研究员也没多待，离开了。

偌大的办公室，很快就只剩下许青舟一个人，他换上白大褂，钻进实验室，准备再看看样品的情况，随即把直径3mm的圆片放入TEM里边。

通过高分辨透射电镜图像，可以直接观察到W/AIN界面处形成的~20nm厚非晶/

纳米晶扩散层。

上午11点半，六楼办公室。

许青舟靠在椅子上长吐口气，揉了揉太阳穴，觉得有些头疼，「果然没那麽顺利。」

他已经把ATPC—01的数据拉上一遍。

「接下来，就是利用阿伦尼乌斯方程，分析不同温度下的氚渗透率数据，计算出ATPC—01涂层在失效状态下的表观激活能。」

希望从能量层面上证实了微观观察中看到的裂纹和界面扩散层是主要渗透路径。

许青舟正想着的时候，办公室门被人推开。

穿着休闲装的女孩背着手，踩着帆布鞋走进来。

「你不是和丁佳慧逛街去了吗？」许青舟疑惑。